シランカップリング剤...

シランカップリング剤を用いたゲート絶縁膜表面処理による有機薄膜トランジスタの高性能化 (プリント基板、封止材料分野でのシランカップリング剤の選び方、使い方、分析ノウハウ)

記事を表すアイコン

シランカップリング剤を用いたゲート絶縁膜表面処理による有機薄膜トランジスタの高性能化(プリント基板、封止材料分野でのシランカップリング剤の選び方、使い方、分析ノウハウ)

国立国会図書館請求記号
Z74-C308
国立国会図書館書誌ID
8893257
資料種別
記事
著者
熊木 大介ほか
出版者
東京 : 技術情報協会
出版年
2007-07
資料形態
デジタル
掲載誌名
Material stage / 技術情報協会 編 7(4) (通号 76) 2007.7
掲載ページ
p.13~16
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
記事
著者・編者
熊木 大介
時任 静士
並列タイトル等
Surface modification of gate insulator with silane-coupling agent in organic thin-film transistor
タイトル(掲載誌)
Material stage / 技術情報協会 編
巻号年月日等(掲載誌)
7(4) (通号 76) 2007.7
掲載巻
7
掲載号
4