水素変調ドープa-S...

水素変調ドープa-Si膜のエキシマレーザアニーリング

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水素変調ドープa-Si膜のエキシマレーザアニーリング

国立国会図書館請求記号
Z17-314
国立国会図書館書誌ID
8915223
資料種別
記事
著者
部家 彰ほか
出版者
仙台 : 日本金属学会 ; 1937-
出版年
2007-08
資料形態
掲載誌名
日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials 71(8) 2007.8
掲載ページ
p.661~665
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
部家 彰
松尾 直人
芹川 正 他
並列タイトル等
Excimer laser annealing of hydrogen modulation doped a-Si film
タイトル(掲載誌)
日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials
巻号年月日等(掲載誌)
71(8) 2007.8
掲載巻
71
掲載号
8
掲載ページ
661~665