Diffusion of boron in silicon through oxide layer

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Diffusion of boron in silicon through oxide layer

国立国会図書館請求記号
Z53-C323
国立国会図書館書誌ID
9242000
資料種別
記事
著者
Horiuchi S
出版者
Osaka : Faculty of Engineering
出版年
1962-10
資料形態
掲載誌名
Technology reports of the Osaka University 12(508/536):1962.10
掲載ページ
p.265-276
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資料種別
記事
著者・編者
Horiuchi S
著者標目
タイトル(掲載誌)
Technology reports of the Osaka University
巻号年月日等(掲載誌)
12(508/536):1962.10
掲載巻
12
掲載号
508/536
掲載ページ
265-276
掲載年月日(W3CDTF)
1962-10