1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長--赤外吸収スペクトルによる解析 (第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京)

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1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長--赤外吸収スペクトルによる解析(第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京)

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資料種別: 記事
タイトル: 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長--赤外吸収スペクトルによる解析
著者・編者: 中村健
野中秀彦
亀田直人他
シリーズタイトル: 第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京
著者標目: 中村健
野中秀彦
亀田直人
並列タイトル等: Fabrication of a silicon oxide film by ozone and 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane (HMDS): infrared absorption analysis on a photochemical reaction in the gas phase
タイトル（掲載誌）: Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空
巻号年月日等（掲載誌）: 51(3) 2008.3
掲載巻: 51
掲載号: 3
掲載ページ: 224～227
掲載年月日（W3CDTF）: 2008-03
ISSN（掲載誌）: 1882-2398
ISSN-L（掲載誌）: 1882-2398
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本真空協会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZN15
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z16-474
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 9471673
http://id.ndl.go.jp/bib/9471673
整理区分コード: 632