励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用 (第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京)
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 亀田 直人斉藤 茂西口 哲也 他
- 並列タイトル等
- Application of UV-light excited ozone to large-sized Si wafer at low temperature
- タイトル（掲載誌）
- Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 51(3) 2008.3
- 掲載巻
- 51
- 掲載号
- 3