@prefix rdf: <http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#>.
@prefix rdfs: <http://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#>.
@prefix owl: <http://www.w3.org/2002/07/owl#>.
@prefix skos: <http://www.w3.org/2004/02/skos/core#>.
@prefix xl: <http://www.w3.org/2008/05/skos-xl#>.
@prefix rdag1: <http://RDVocab.info/ElementsGr1/>.
@prefix rda: <http://RDVocab.info/ElementsGr2/>.
@prefix rdaa: <http://rdaregistry.info/Elements/a/>.
@prefix frbrent: <http://RDVocab.info/uri/schema/FRBRentitiesRDA/>.
@prefix foaf: <http://xmlns.com/foaf/0.1/>.
@prefix ndl: <http://ndl.go.jp/dcndl/terms/>.
@prefix dct: <http://purl.org/dc/terms/>.

<http://id.ndl.go.jp/auth/ndlna/00881802>
	foaf:primaryTopic <http://id.ndl.go.jp/auth/entity/00881802>;
	rdf:type <http://www.w3.org/2004/02/skos/core#Concept>;
	dct:modified "2002-07-30T18:52:00";
	dct:created "2002-07-15";
	xl:prefLabel [xl:literalForm "産業技術総合研究所次世代半導体研究センター";ndl:transcription "サンギョウ ギジュツ ソウゴウ ケンキュウジョ ジセダイ ハンドウタイ ケンキュウ センター"@ja-Kana,"Sangyo Gijutsu Sogo Kenkyujo Jisedai Handotai Kenkyu Senta"@ja-Latn];
	rdfs:label "産業技術総合研究所次世代半導体研究センター";
	xl:altLabel [xl:literalForm "次世代半導体研究センター";ndl:transcription "ジセダイ ハンドウタイ ケンキュウ センター"@ja-Kana,"Jisedai Handotai Kenkyu Senta"@ja-Latn],[xl:literalForm "National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Advanced Semiconductor Research Center";dct:description "英語名"],[xl:literalForm "AIST ASRC";dct:description "略称"];
	dct:source "EUVリソグラフィー用プラズマ光源に関する技術的考察 / 富江敏尚 [著] ; 産業技術総合研究所次世代半導体研究センター 編";
	skos:exactMatch <http://viaf.org/viaf/sourceID/NDL%7C00881802#skos:Concept>;
	skos:inScheme <http://id.ndl.go.jp/auth#corporateNames>.

<http://id.ndl.go.jp/auth/entity/00881802>
	rdf:type <http://xmlns.com/foaf/0.1/Organization>;
	foaf:name "産業技術総合研究所次世代半導体研究センター";
	rda:dateOfEstablishment "2001";
	rda:corporateHistory "独立行政法人".