RFプラズマCVD法による窒化ホウ素膜の堆積

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RFプラズマCVD法による窒化ホウ素膜の堆積

国立国会図書館請求記号
Z16-793
国立国会図書館書誌ID
025596980
資料種別
記事
著者
稲尾 拓朗ほか
出版者
東京 : 電気学会
出版年
2014-06
資料形態
掲載誌名
電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials 134(6):2014.6
掲載ページ
p.397-401
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
稲尾 拓朗
熊懐 正彦
佐藤 孝紀 他
並列タイトル等
Deposition of Boron Nitride Films using RF Plasma CVD Method
タイトル(掲載誌)
電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials
巻号年月日等(掲載誌)
134(6):2014.6
掲載巻
134
掲載号
6
掲載ページ
397-401