GaN HEMTの高温通電劣化への窒化膜電気伝導の影響 (電子デバイス研究会 次世代化合物半導体デバイスの機能と応用)

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GaN HEMTの高温通電劣化への窒化膜電気伝導の影響

(電子デバイス研究会 次世代化合物半導体デバイスの機能と応用)

国立国会図書館請求記号
Z43-225
国立国会図書館書誌ID
027732988
資料種別
記事
著者
広瀬 真由美ほか
出版者
東京 : 電気学会
出版年
2016-03
資料形態
掲載誌名
電気学会研究会資料. EDD = The papers of technical meeting on electron devices, IEE Japan / 電子デバイス研究会 [編] 2016(36-45):2016.3.28・29
掲載ページ
p.49-53
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
広瀬 真由美
松下 景一
高木 一考
並列タイトル等
High-temperature GaN HEMT Degradation Affected by Silicon Nitride Film Conductivity
タイトル(掲載誌)
電気学会研究会資料. EDD = The papers of technical meeting on electron devices, IEE Japan / 電子デバイス研究会 [編]
巻号年月日等(掲載誌)
2016(36-45):2016.3.28・29
掲載巻
2016
掲載号
36-45