プリンテッドエレクト...

プリンテッドエレクトロニクスのための2-ニトロベンジル基を含む光応答性表面修飾剤の開発 (特集 第6回アンビエント技術セミナー)

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プリンテッドエレクトロニクスのための2-ニトロベンジル基を含む光応答性表面修飾剤の開発(特集 第6回アンビエント技術セミナー)

国立国会図書館請求記号
Z17-495
国立国会図書館書誌ID
029570682
資料種別
記事
著者
山口 和夫ほか
出版者
東京 : 日本写真学会
出版年
2019-02
資料形態
掲載誌名
日本写真学会誌 = Journal of the Society of Photography and Imaging of Japan 82(1):2019.2
掲載ページ
p.13-18
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
山口 和夫
猪狩 拓真
並列タイトル等
Development of Photosensitive Surface Modifying Agents Containing 2-Nitrobenzyl Group for Printed Electronics
タイトル(掲載誌)
日本写真学会誌 = Journal of the Society of Photography and Imaging of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
82(1):2019.2
掲載巻
82
掲載号
1