表面波プラズマCVD...

表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と絶縁性評価 (誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会 放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧/誘電・絶縁材料)

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表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と絶縁性評価

(誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会 放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧/誘電・絶縁材料)

国立国会図書館請求記号
Z43-230
国立国会図書館書誌ID
031283718
資料種別
記事
著者
泥谷 亮太ほか
出版者
東京 : 電気学会
出版年
2021-01-22
資料形態
掲載誌名
電気学会研究会資料. HV = The papers of technical meeting on high voltage engineering, IEE Japan / 高電圧研究会 [編] 2021(1-18):2021.1.22
掲載ページ
p.89-92
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
泥谷 亮太
伊藤 隆太
山本 世翔
神村 勇馬
堤井 君元
松本 精一郎
並列タイトル等
Synthesis of Boron Nitride Films by Surface-Wave Plasma-Enhanced CVD and Characterization of Their Insulation Properties
タイトル(掲載誌)
電気学会研究会資料. HV = The papers of technical meeting on high voltage engineering, IEE Japan / 高電圧研究会 [編]
巻号年月日等(掲載誌)
2021(1-18):2021.1.22
掲載巻
2021
掲載号
1-18