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in situ XAFS用加熱フローセルシステムの開発と無電解ニッケルめっき反応の解析への応用 (年間特集 流)

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in situ XAFS用加熱フローセルシステムの開発と無電解ニッケルめっき反応の解析への応用

(年間特集 流)

国立国会図書館請求記号
Z17-9
国立国会図書館書誌ID
033127744
資料種別
記事
著者
中島 淳一ほか
出版者
東京 : 日本分析化学会
出版年
2023-10
資料形態
掲載誌名
分析化学 / 日本分析化学会 編 72(10・11)=822:2023.10
掲載ページ
p.391-397
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
中島 淳一
野上 哲平
梶原 佑紀
仲西 桃太郎
藤木 裕宇
近間 克己
山添 誠司
シリーズタイトル
並列タイトル等
Development of a Heatable Flow Cell System for in situ XAFS and Its Application to Analysis of Electroless Nickel Plating Reaction
タイトル(掲載誌)
分析化学 / 日本分析化学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
72(10・11)=822:2023.10
掲載巻
72
掲載号
10・11