書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 後藤 正和川中 繁犬宮 誠司 他
- シリーズタイトル
- 並列タイトル等
- The study of mobility-Tinv trade-off in deeply scaled high-k/metal gate devices and scaling design guideline for 22nm-node generation
- タイトル（掲載誌）
- 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 109(134) 2009.7.16・17
- 掲載巻
- 109
- 掲載号
- 134