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雑誌Japanese journal of applied physics Part. 1 Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号Part. 1 Part. 1 35(11)(450);NOVEMBER 1996
記事Effects of...

Effects of the Annealing in Ar and H2/Ar Ambients on the Microstructure and the Electrical Resistivity of the Copper Film Prepared by Chamical Vapor Deposition

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Effects of the Annealing in Ar and H2/Ar Ambients on the Microstructure and the Electrical Resistivity of the Copper Film Prepared by Chamical Vapor Deposition

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
4090519
資料種別
記事
著者
Sa-Kyun Rhaほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
1996-11
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 35(11) 1996.11
掲載ページ
p.5781～5786
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デジタル

資料種別
記事
タイトル
Effects of the Annealing in Ar and H2/Ar Ambients on the Microstructure and the Electrical Resistivity of the Copper Film Prepared by Chamical Vapor Deposition
著者・編者
Sa-Kyun Rha
Won-Jun Lee
Seung-Yun Lee 他
著者標目
Sa-Kyun Rha
Won-Jun Lee
Seung-Yun Lee
タイトル（掲載誌）
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）
35(11) 1996.11
掲載巻
35
掲載号
11
掲載ページ
5781～5786
掲載年月日（W3CDTF）
1996-11