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雑誌表面科学
巻号20(1)-20(6) 19990100-19990600
記事解説 真空紫外光プロ...

解説 真空紫外光プロセスの現状と将来 (特集 真空紫外光源とその応用)

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解説 真空紫外光プロセスの現状と将来(特集 真空紫外光源とその応用)

国立国会図書館請求記号
Z15-379
国立国会図書館書誌ID
4757707
資料種別
記事
著者
佐々木 亘
出版者
東京 : 日本表面科学会
出版年
1999-06
資料形態
デジタル
掲載誌名
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編 20(6) 1999.06
掲載ページ
p.388～392
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資料詳細

要約等：

Efficient and intense light sources in the vacuum-ultraviolet spectral region and their applications have been reviewed. High-intensity dielectric-bar...

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デジタル

資料種別
記事
タイトル
解説 真空紫外光プロセスの現状と将来
著者・編者
佐々木 亘
シリーズタイトル
特集 真空紫外光源とその応用
著者標目
佐々木 亘
タイトル（掲載誌）
表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
巻号年月日等（掲載誌）
20(6) 1999.06
掲載巻
20
掲載号
6
掲載ページ
388～392