SiO Mass Spectrometry and Si-2p Photoemmission Spectroscopy for the Study of Oxidation Reaction Dynamics of Si(001) Surface by Supersonic O2 Molecular Beams under 1000 K (Special Issue: Surface and Interface Analysis)

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SiO Mass Spectrometry and Si-2p Photoemmission Spectroscopy for the Study of Oxidation Reaction Dynamics of Si(001) Surface by Supersonic O2 Molecular Beams under 1000 K(Special Issue: Surface and Interface Analysis)

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
6629514
資料種別
記事
著者
Yuden Teraokaほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2003-07
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 42(7B) (通号 580) 2003.7
掲載ページ
p.4671~4675
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資料詳細

要約等:

The Si<SUP>18</SUP>O desorption yield was measured in the Si(001) surface temperature region from 900 K to 1300 K at the <SUP>18</SUP>O<SUB>2</SUB> in...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
Yuden Teraoka
Akitaka Yoshigoe
Kousuke Moritani
タイトル(掲載誌)
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等(掲載誌)
42(7B) (通号 580) 2003.7
掲載巻
42
掲載号
7B
掲載通号
580