ArF Photo Resist Pattern Improvement by VUV Cure (AWAD2006)

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ArF Photo Resist Pattern Improvement by VUV Cure

(AWAD2006)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
8016058
資料種別
記事
著者
宮武 久和ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2006-07
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106(137) 2006.7.3-5
掲載ページ
p.211~216
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
宮武 久和
伊藤 隆司
シリーズタイトル
並列タイトル等
VUVキュアーによるArFリソグラフィーパターンの改善
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
106(137) 2006.7.3-5
掲載巻
106
掲載号
137