Anatomical Development of Phi Thickening and the Casparian Strip in Loquat Roots

国立国会図書館請求記号: Z18-172
国立国会図書館書誌ID: 8578932

資料種別: 記事

著者: 潘春香ほか

出版者: [京都] : 園芸学会

出版年: 2006-11

資料形態: デジタル

掲載誌名: 園芸学会雑誌 75(6) 2006.11

掲載ページ: p.445～449

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資料詳細

要約等：: ビワ根の内皮側の皮層細胞にみられる細胞壁の内部成長（phi 肥厚）と内皮のカスパリー線の形成過程を検討した．phi 肥厚は根端から約10 mm の部位から出現し，30 mm 付近でほぼ最大に達した．内皮側の皮層の第 1 層目に出現した Phi 肥厚は中心柱...

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: Anatomical Development of Phi Thickening and the Casparian Strip in Loquat Roots
著者・編者: 潘春香
中尾義則
新居直祐
著者標目: 潘春香
中尾義則
新居直祐
並列タイトル等: ビワ根の成長にともなう皮層細胞壁の内部成長とカスパリー線の発達
タイトル（掲載誌）: 園芸学会雑誌
巻号年月日等（掲載誌）: 75(6) 2006.11
掲載巻: 75
掲載号: 6
掲載ページ: 445～449
掲載年月日（W3CDTF）: 2006-11
ISSN（掲載誌）: 0013-7626
ISSN-L（掲載誌）: 0013-7626
出版事項（掲載誌）: [京都] : 園芸学会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: drought stress
loquat (Eriobotrya japonica Lindl.)
root
NDLC: ZR7
対象利用者: 一般
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z18-172
関連情報（URI）: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10470850
関連情報（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10470850
http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10470850
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 8578932
http://id.ndl.go.jp/bib/8578932
整理区分コード: 632