Low temperature hetero-epitaxy of ferromagnetic silicide on Ge substrates for spin-transistor application (Silicon devices and materials: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))

Low temperature hetero-epitaxy of ferromagnetic silicide on Ge substrates for spin-transistor application

(Silicon devices and materials: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))

Call No. (NDL): Z16-940
Bibliographic ID of National Diet Library: 8803939

Material type: 記事

Author: 安藤裕一郎ほか

Publisher: 東京 : 電子情報通信学会

Publication date: 2007-06

Material Format: Paper

Journal name: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 107(111) 2007.6.25-27

Publication Page: p.221～224

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Paper

Material Type: 記事
Title: Low temperature hetero-epitaxy of ferromagnetic silicide on Ge substrates for spin-transistor application
Author/Editor: 安藤裕一郎
上田公二
熊野守他
Series Title: Silicon devices and materials: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007)
Author Heading: 安藤裕一郎
上田公二
熊野守
Alternative Title: 強磁性体シリサイド/Geの低温エピタキシャル成長とスピントランジスタ
Periodical title: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue: 107(111) 2007.6.25-27
Volume: 107
Issue: 111
Pages: 221～224
Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2007-06
ISSN (Periodical Title): 0913-5685
ISSN-L (Periodical Title): 0913-5685
Publication (Periodical Title): 東京 : 電子情報通信学会
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: eng
Subject Heading: 強磁性体シリサイド
Fe3Si
Ge
分子線エピタキシャル成長
Ferromagnetic silicide
Molecular beam epitaxy
NDLC: ZN33
Target Audience: 一般
Report No. (Article): SDM2007-106
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Z16-940
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 8803939
http://id.ndl.go.jp/bib/8803939
Bibliographic Record Category (NDL): 632