パルスレーザー堆積法...

パルスレーザー堆積法による複酸化物薄膜のエピタキシー (特集 高品質エピタキシャル薄膜の作製・デバイス化)

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パルスレーザー堆積法による複酸化物薄膜のエピタキシー

(特集 高品質エピタキシャル薄膜の作製・デバイス化)

国立国会図書館請求記号
Z14-909
国立国会図書館書誌ID
9366075
資料種別
記事
著者
大西 剛
出版者
東京 : シーエムシー出版
出版年
2008-03
資料形態
掲載誌名
機能材料 28(3) (通号 319) 2008.3
掲載ページ
p.6~14
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
大西 剛
著者標目
並列タイトル等
Epitaxial growth of complex oxide thin films by pulsed laser deposition
タイトル(掲載誌)
機能材料
巻号年月日等(掲載誌)
28(3) (通号 319) 2008.3
掲載巻
28
掲載号
3