高周波プラズマ支援ス...

高周波プラズマ支援スパッタリング法によるTi薄膜の構造および物性制御 (第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日~16日,東京)

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高周波プラズマ支援スパッタリング法によるTi薄膜の構造および物性制御(第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日~16日,東京)

Call No. (NDL)
Z16-474
Bibliographic ID of National Diet Library
9471388
Material type
記事
Author
大谷 寿幸ほか
Publisher
東京 : 日本真空協会
Publication date
2008-03
Material Format
Paper
Journal name
Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空 51(3) 2008.3
Publication Page
p.141~144
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Paper Digital

Material Type
記事
Author/Editor
大谷 寿幸
草野 英二
Alternative Title
Modification of structure and properties in Ti films deposited by Rf-plasma-assisted Dc and pulsed Dc sputtering
Periodical title
Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空
No. or year of volume/issue
51(3) 2008.3
Volume
51
Issue
3