光照射を重畳したCF...

光照射を重畳したCF3イオンビームによるSiO2エッチング率の測定 (第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日~16日,東京)

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光照射を重畳したCF3イオンビームによるSiO2エッチング率の測定(第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日~16日,東京)

Call No. (NDL)
Z16-474
Bibliographic ID of National Diet Library
9471448
Material type
記事
Author
幾世 和将ほか
Publisher
東京 : 日本真空協会
Publication date
2008-03
Material Format
Paper
Journal name
Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空 51(3) 2008.3
Publication Page
p.158~161
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Paper Digital

Material Type
記事
Author/Editor
幾世 和将
吉村 智
滝澤 敏史 他
Alternative Title
SiO2 etching yield measurements by CF3 ion beam injections superposed with light irradiation
Periodical title
Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空
No. or year of volume/issue
51(3) 2008.3
Volume
51
Issue
3