AIC法による低温多結晶シリコン薄膜形成挙動の微細構造解析 (有機エレクトロニクス)

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AIC法による低温多結晶シリコン薄膜形成挙動の微細構造解析

(有機エレクトロニクス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
9489538
資料種別
記事
著者
池田 賢一ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2008-04
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 108(2) 2008.4.11・12
掲載ページ
p.95~100
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
池田 賢一
廣田 健
藤本 健資 他
シリーズタイトル
並列タイトル等
Microstructural analysis of polycrystalline silicon thin films formation behavior during aluminum induced crystallization
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
108(2) 2008.4.11・12
掲載巻
108
掲載号
2