低濃度塩水溶液に紫外...

低濃度塩水溶液に紫外線照射・磁気を処理した後のヒドロキシルラジカル生成と殺菌効果について

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低濃度塩水溶液に紫外線照射・磁気を処理した後のヒドロキシルラジカル生成と殺菌効果について

国立国会図書館請求記号
Z18-1164
国立国会図書館書誌ID
9514243
資料種別
記事
著者
岩沢 篤郎ほか
出版者
大阪 : 日本防菌防黴学会
出版年
2008
資料形態
デジタル
掲載誌名
防菌防黴 : 日本防菌防黴学会誌 36(5) (通号 411) 2008
掲載ページ
p.285~291
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
岩沢 篤郎
高橋 法子
中村 良子 他
並列タイトル等
Hydroxyl radical generation and bactericidal effects in salt solutions of low concentration after ultraviolet irradiation and magnetic treatment
タイトル(掲載誌)
防菌防黴 : 日本防菌防黴学会誌
巻号年月日等(掲載誌)
36(5) (通号 411) 2008
掲載巻
36
掲載号
5
掲載通号
411