博士論文

HF-NO2混合気体処理によるシリコン・デバイスの表面保護方法の研究

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HF-NO2混合気体処理によるシリコン・デバイスの表面保護方法の研究

国立国会図書館請求記号
UT51-61-K254
国立国会図書館書誌ID
000000168432
資料種別
博士論文
著者
伊藤秀朗 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東海大学,工学博士
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資料種別
博士論文
タイトルよみ
HF-NO2 コンゴウ キタイ ショリ ニ ヨル シリコン デバイス ノ ヒョウメン ホゴ ホウホウ ノ ケンキュウ
著者・編者
伊藤秀朗 [著]
著者標目
伊藤, 秀朗 イトウ, ヒデオ
数量
授与機関名
東海大学
授与年月日
昭和61年3月25日
授与年月日(W3CDTF)
1986
報告番号
乙第41号