博士論文
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Studies on catalytic properties of metal thin films prepared by RF sputtering method

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Studies on catalytic properties of metal thin films prepared by RF sputtering method

国立国会図書館請求記号
UT51-63-G163
国立国会図書館書誌ID
000000197043
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/12518324
資料種別
博士論文
著者
玉置純 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
大阪大学,工学博士
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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
玉置純 [著]
著者標目
玉置, 純 タマキ, ジュン
並列タイトル等
RFスパッタリング法により調製した金属薄膜の触媒作用に関する研究 RF スパッタリングホウ ニ ヨリ チョウセイシタ キンゾク ハクマク ノ ショクバイ サヨウ ニ カンスル ケンキュウ
授与機関名
大阪大学
授与年月日
昭和63年3月25日
授与年月日(W3CDTF)
1988
報告番号
甲第3797号
学位
工学博士