博士論文

高周波スパッタリング法によるシリコン半導体用SiO2表面保護膜形成に関する研究

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高周波スパッタリング法によるシリコン半導体用SiO2表面保護膜形成に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-59-K153
国立国会図書館書誌ID
000000214905
資料種別
博士論文
著者
原邦彦 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
名古屋大学,工学博士
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資料種別
博士論文
タイトルよみ
コウシュウハ スパッタリングホウ ニ ヨル シリコン ハンドウタイヨウ SiO2 ヒョウメン ホゴマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
原邦彦 [著]
著者標目
原, 邦彦 ハラ, クニヒコ
数量
授与機関名
名古屋大学
授与年月日
昭和59年7月5日
授与年月日(W3CDTF)
1984
報告番号
乙第2650号