微細パターン転写を目的とする電子線・紫外線感応性高分子の基礎的研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ビサイ パターン テンシャ オ モクテキ ト スル デンシセン シガイセン カンノウセイ コウブンシ ノ キソテキ ケンキュウ
- 著者・編者
- 佐伯英夫 [著]
- 著者標目
- 佐伯, 英夫 サエキ, ヒデオ
- 授与機関名
- 東京理科大学
- 授与年月日
- 平成1年3月20日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1989
- 報告番号
- 乙第282号
- 学位
- 理学博士