Formation and growth mechanism of fine particles prepared by chemical vapor deposition : preparation of TiO[2] by pyrolysis/hydrosylis of Ti(iso-OC[3]H[7])[4]
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国立国会図書館デジタルコレクション
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- Kirkbir, Fikret [著]
- 著者標目
- Kirkbir, Fikret クックビル, フィクレット
- 並列タイトル等
- CVD「化学気相析出法」によって作製した微粒子の生成と成長のメカニズム : Ti(iso-OC[3]H[7])[4]の熱分解および加水分解反応によるTiO[2]の作製 CVD カガク キソウ セキシュツホウ ニ ヨッテ サクセイシタ ビリュウシ ノ セイセイ ト セイチョウ ノ メカニズム : Ti(iso-OC3H7)4 ノ ネツ ブンカイ オヨビ カスイ ブンカイ ハンノウ ニ ヨル TiO2 ノ サクセイ
- 授与機関名
- 東京大学
- 授与年月日
- 昭和63年9月30日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1988
- 報告番号
- 甲第7922号
- 学位
- 工学博士