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Study on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings

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Study on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings

国立国会図書館請求記号
UT51-90-N329
国立国会図書館書誌ID
000000232625
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/11437843
資料種別
博士論文
著者
平尾孝 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
金沢大学,学術博士
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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
平尾孝 [著]
著者標目
平尾, 孝 ヒラオ, タカシ
並列タイトル等
プラズマ・プロセスによるシリコン系絶縁薄膜の構造に関する研究 プラズマ プロセス ニ ヨル シリコンケイ ゼツエン ハクマク ノ コウゾウ ニ カンスル ケンキュウ
授与機関名
金沢大学
授与年月日
平成1年9月30日
授与年月日(W3CDTF)
1989
報告番号
乙第1069号
学位
学術博士