Nitrided oxides prepared by rapid thermal processing and applications to submicrometer MOSFET's
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
論文目録
Contents
1.Introduction
p1
References
p7
2.Scaling and Thin Insulators
p9
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 堀隆 [著]
- 著者標目
- 堀, 隆 ホリ, タカシ
- 並列タイトル等
- 急速加熱形成による窒化二酸化珪素膜とその微細MOSトランジスタへの応用に関する研究 キュウソク カネツ ケイセイ ニ ヨル チッカ ニサンカ ケイソマク ト ソノ ビサイ MOS トランジスタ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- 授与機関名
- 京都大学
- 授与年月日
- 平成3年1月23日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1991
- 報告番号
- 乙第7396号
- 学位
- 工学博士