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シリコンの固相エピタキシャル成長に関する研究

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シリコンの固相エピタキシャル成長に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-91-K441
国立国会図書館書誌ID
000000240916
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3085558
資料種別
博士論文
著者
上野智雄 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
早稲田大学,工学博士
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目次

  • [目次]

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 エピタキシャル成長の必要性

    p1

  • 1.2 固相エピタキシャル成長の利点と問題点

    p1

  • 1.3 本研究の概要と意義

    p3

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
シリコン ノ コソウ エピタキシャル セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
上野智雄 [著]
著者標目
上野, 智雄 ウエノ, トモオ ( 001134622 )典拠
授与機関名
早稲田大学
授与年月日
平成3年3月15日
授与年月日(W3CDTF)
1991
報告番号
甲第865号
学位
工学博士