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Studies on photoacid generation from aromatic sulfonates : mechanistic investigation and application to resist materials

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Studies on photoacid generation from aromatic sulfonates : mechanistic investigation and application to resist materials

国立国会図書館請求記号
UT51-93-H292
国立国会図書館書誌ID
000000259169
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3091778
資料種別
博士論文
著者
内藤和彦 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
千葉大学,博士 (工学)
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目次

  • Contents

  • Chapter 1 General Introduction

    p1

  • References

    p17

  • Chapter 2 Photoinduced Intramolecular Electron Trasnfer Mechanism for Photochemical Dissociation of Para-Substituted Benzyl 9,10-Dimethoxyanthracene-2-sulfonates

    p19

  • Abstract

    p19

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
内藤和彦 [著]
著者標目
内藤, 和彦 ナイトウ, カズヒコ
並列タイトル等
芳香族スルホネート類からの光酸発生に関する研究 : 反応機構の研究とレジスト材料への応用 ホウコウゾク スルホネートルイ カラ ノ ヒカリ サン ハッセイ ニ カンスル ケンキュウ : ハンノウ キコウ ノ ケンキュウ ト レジスト ザイリョウ エ ノ オウヨウ
授与機関名
千葉大学
授与年月日
平成5年3月25日
授与年月日(W3CDTF)
1993
報告番号
甲第989号
学位
博士 (工学)