Studies on radicals in CHF[3] ECR etching plasma using spectroscopic techniques
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
CONTENTS
p1
CHAPTER1.INTRODUCTION
p1
1.1 Electron Cyclotron Resonance(ECR)Plasma Etching
p1
1.2 Problems in Previous Studies
p2
1.3 Purpose and Composition of Dissertation
p8
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 高橋邦方 [著]
- 著者標目
- 高橋, 邦方 タカハシ, クニマサ
- 並列タイトル等
- 分光法を用いたCHF[3]ECRエッチングプラズマにおけるラジカルに関する研究 ブンコウホウ オ モチイタ CHF3 ECR エッチング プラズマ ニ オケル ラジカル ニ カンスル ケンキュウ
- 授与機関名
- 名古屋大学
- 授与年月日
- 平成8年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1996
- 報告番号
- 甲第3466号
- 学位
- 博士 (工学)