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An analytical study on surface oxidation mechanisms of metal nitride films by means of soft X-ray photoelectron and absorption spectroscopy

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国立国会図書館デジタルコレクション

An analytical study on surface oxidation mechanisms of metal nitride films by means of soft X-ray photoelectron and absorption spectroscopy

国立国会図書館請求記号
UT51-97-W374
国立国会図書館書誌ID
000000316020
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3130831
資料種別
博士論文
著者
江坂文孝 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東京理科大学,博士 (理学)
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資料に関する注記

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目次

  • CONTENTS

  • CHAPTER 1. INTRODUCTION

    p1

  • 1-1.Metal nitrides

    p1

  • 1-2.Previous studies on surface oxidation mechanisms of nitride films

    p4

  • 1-3.Soft x-ray in the energy range of 200 - 1000 eV from synchrotron radiation as an excitation source

    p6

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書誌情報

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紙 デジタル

資料種別
博士論文
タイトル
An analytical study on surface oxidation mechanisms of metal nitride films by means of soft X-ray photoelectron and absorption spectroscopy
著者・編者
江坂文孝 [著]
著者標目
江坂, 文孝 エサカ, フミタカ
並列タイトル等
軟X線光電子分光法および軟X線吸収分光法による金属窒化物膜の表面酸化メカニズムに関する分析化学的研究 ナンXセン コウデンシ ブンコウホウ オヨビ ナンXセン キュウシュウ ブンコウホウ ニ ヨル キンゾク チッカブツマク ノ ヒョウメン サンカ メカニズム ニ カンスル ブンセキ カガクテキ ケンキュウ
授与機関名
東京理科大学
授与年月日
平成9年3月20日
授与年月日（W3CDTF）
1997
報告番号
甲第294号
学位
博士 (理学)