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水素化アモルファスシリコンのプラズマ堆積における表面過程の量子化学的研究

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水素化アモルファスシリコンのプラズマ堆積における表面過程の量子化学的研究

国立国会図書館請求記号
UT51-98-B351
国立国会図書館書誌ID
000000318050
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3132860
資料種別
博士論文
著者
中嶌健司 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東京工業大学,博士 (理学)
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目次

  • 論文目録

  • 要旨

  • 目次

    p1

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 緒言

    p1

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
スイソカ アモルファス シリコン ノ プラズマ タイセキ ニ オケル ヒョウメン カテイ ノ リョウシ カガクテキ ケンキュウ
著者・編者
中嶌健司 [著]
著者標目
中嶌, 健司 ナカジマ, ケンジ
授与機関名
東京工業大学
授与年月日
平成9年3月26日
授与年月日(W3CDTF)
1997
報告番号
甲第3534号
学位
博士 (理学)