Radical kinetics and its control in chemical vapor deposition of amorphous, microcrystalline and polycrystalline silicon thin films
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
論文目録
Contents
p5
Abstract
p1
Acknowledgments
p3
1.Introduction
p1
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 白藤立 [著]
- 著者標目
- 白藤, 立 シラフジ, タツル
- 並列タイトル等
- アモルファス, 微結晶および多結晶シリコン薄膜の化学気相堆積におけるラジカル反応過程とその制御に関する研究 アモルファス , ビケッショウ オヨビ タケッショウ シリコン ハクマク ノ カガク キソウ タイセキ ニ オケル ラジカル ハンノウ カテイ ト ソノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
- 授与機関名
- 京都大学
- 授与年月日
- 平成10年1月23日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1998
- 報告番号
- 乙第9750号
- 学位
- 博士 (工学)