低エネルギイオン照射を用いた低温シリコン薄膜形成プロセスの研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
第1章 序論
p1
1.1 固体電子工学の発展
p1
1.2 結晶成長の低温化と低エネルギイオン照射プロセス
p2
1.3 インライン欠陥検査を用いた歩留り管理
p4
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- テイエネルギ イオン ショウシャ オ モチイタ テイオン シリコン ハクマク ケイセイ プロセス ノ ケンキュウ
- 著者・編者
- 進藤亘 [著]
- 著者標目
- 進藤, 亘 シンドウ, ワタル
- 授与機関名
- 東北大学
- 授与年月日
- 平成11年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1999
- 報告番号
- 甲第6907号
- 学位
- 博士(工学)