スパッタ法による超LSI多層配線用Al系合金薄膜の形成技術に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
第1章 序論
p1
1.1 研究の主旨
p1
1.2 研究の背景
p1
1.3 従来技術の問題点と本研究の目的
p3
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- スパッタホウ ニ ヨル チョウLSI タソウ ハイセンヨウ Alケイ ゴウキン ハクマク ノ ケイセイ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 鴨志田和良 [著]
- 著者標目
- 鴨志田, 和良 カモシダ, カズヨシ
- 授与機関名
- 北海道大学
- 授与年月日
- 平成11年3月25日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1999
- 報告番号
- 乙第5459号
- 学位
- 博士(工学)