Studies on fabrication of low-dielectric-constant siloxane film by plasma processes
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目次
CONTENTS
p1
CHAPTER 1.INTRODUCTION
p1
1.1 Technology of Multilevel Interconnection for ULSI Devices
p1
1.2 Materials Possessing Siloxane Structures
p8
1.3 Problems of Previous Studies on Fabrication of Low-Dielectric-Constant Film
p11
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 藤井俊明 [著]
- 著者標目
- 藤井, 俊明 フジイ, トシアキ
- 授与機関名
- 名城大学
- 授与年月日
- 平成11年3月18日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1999
- 報告番号
- 甲第35号
- 学位
- 博士(工学)
- 学位論文注記
- 博士論文