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RF高密度プラズマを用いた高アスペクト比SiO[2]エッチングとその反応機構

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RF高密度プラズマを用いた高アスペクト比SiO[2]エッチングとその反応機構

国立国会図書館請求記号
UT51-99-P55
国立国会図書館書誌ID
000000338815
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3153624
資料種別
博士論文
著者
鎭西康彦 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
東洋大学,博士(工学)
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目次

  • 第5章 平板型磁気中性ループ放電(NLD)エッチャーの開発とそのプラズマ特性

    p49

  • 5.1 序論

    p49

  • 5.2 磁気中性ループ放電(NLD)の原理

    p49

  • 5.3 実験装置

    p49

  • 5.4 結果と考察

    p51

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
RF コウミツド プラズマ オ モチイタ コウアスペクトヒ SiO2 エッチング ト ソノ ハンノウ キコウ
著者・編者
鎭西康彦 [著]
著者標目
鎭西, 康彦 チンゼイ, ヤスヒコ
授与機関名
東洋大学
授与年月日
平成11年3月25日
授与年月日(W3CDTF)
1999
報告番号
甲第63号
学位
博士(工学)