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プラズマ・プロセスにより作製した太陽電池用シリコン薄膜の基礎研究

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プラズマ・プロセスにより作製した太陽電池用シリコン薄膜の基礎研究

国立国会図書館請求記号
UT51-2000-C58
国立国会図書館書誌ID
000000349373
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3164181
資料種別
博士論文
著者
亀井利浩 [著]
出版者
-
出版年
-
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
京都大学,博士 (理学)
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目次

  • 論文目録

  • 第1章 緒言

  • 1.1 はじめに

  • 1.2 水素化アモルファス・シリコン膜(a-Si:H)

  • 1.3 微結晶シリコン膜(μc-Si:H)

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
タイトルよみ
プラズマ プロセス ニ ヨリ サクセイシタ タイヨウ デンチヨウ シリコン ハクマク ノ キソ ケンキュウ
著者・編者
亀井利浩 [著]
著者標目
亀井, 利浩 カメイ, トシヒロ
授与機関名
京都大学
授与年月日
平成12年1月24日
授与年月日(W3CDTF)
2000
報告番号
乙第10291号
学位
博士 (理学)