プラズマCVD法による高品質Cu薄膜形成に関する基礎的研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p1
記号の説明
p3
第1章 緒言
p1
1.1 Cu配線導入の背景
p4
1.2 Cu薄膜形成技術の現状及び問題点
p7
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- プラズマ CVDホウ ニ ヨル コウヒンシツ Cu ハクマク ケイセイ ニ カンスル キソテキ ケンキュウ
- 著者・編者
- 金洪杰 [著]
- 著者標目
- 金, 洪杰 キン, ホンジェ
- 授与機関名
- 九州大学
- 授与年月日
- 平成12年3月27日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 2000
- 報告番号
- 甲第5224号
- 学位
- 博士 (工学)