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水素終端シリコン表面の原子層酸化の機構と界面構造

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水素終端シリコン表面の原子層酸化の機構と界面構造

国立国会図書館請求記号
Y151-H04452177
国立国会図書館書誌ID
000006986139
資料種別
図書
著者
広瀬, 全孝, 広島大学
出版者
-
出版年
1992-1993
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
スイソ シュウ タン シリコン ヒョウメン ノ ゲンシソウ サンカ ノ キコウ ト カイメン コウゾウ
著者・編者
広瀬, 全孝, 広島大学
著者標目
広瀬, 全孝 ヒロセ, マサタカ
出版年月日等
1992-1993
出版年(W3CDTF)
1992
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(B)
件名標目
シリコン表面 シリコンヒヨウメン
表面マイクロラフネス ヒヨウメンマイクロラフネス
水素終端表面 スイソシユウタンヒヨウメン
原子ステツプ構造 ゲンシステツプコウゾウ
原子層酸化 ゲンシソウサンカ
SiO2/Si界面 SIO2/SIカイメン
FT-IR-ATR FT-IR-ATR
AFM AFM