白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上

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資料種別: 図書
タイトル: 白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上
タイトルよみ: ハッキンノショクバイサヨウオモチイル MOS デバイスゲ-トサンカマクノゼツエンタイアツセイノコウジョウ
著者・編者: 小林, 光, 大阪大学
著者標目: 小林, 光コバヤシ, ヒカル
出版年月日等: 2000-2002
出版年（W3CDTF）: 2000
数量: 冊
その他のタイトル: 研究種目基盤研究(B)
件名標目: 白金処理ハツキンシヨリ
リ-ク電流リ-クデンリユウ
MOS MOS
シリコンシリコン
SiO_2 SIO_2
化学酸化カガクサンカ
低温プロセステイオンプロセス
Si/SiO_2界面 SI/SIO_2カイメン
NDLC: Y151
一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
科研費課題番号: 12450127
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Y151-H12450127
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000007084509
http://id.ndl.go.jp/bib/000007084509
整理区分コード: 214