Integration of phase controlled Ni full silicide and HfSiON gate stack for low power and highly reliable CMOS FET

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資料種別: 博士論文
タイトル: Integration of phase controlled Ni full silicide and HfSiON gate stack for low power and highly reliable CMOS FET
著者・編者: Masayuki Terai [著]
著者標目: 寺井, 真之テライ, マサユキ
出版事項: [Masayuki Terai]
出版年月日等: [2010]
出版年（W3CDTF）: 2010
数量: 1冊
並列タイトル等: 低消費電力かつ高信頼なCMOSFET用相制御ニッケルフルシリサイド/ハフニウム酸窒化膜ゲート積層構造の集積化技術の研究テイショウヒデンリョクカツコウシンライナ CMOSFETヨウソウセイギョニッケルフルシリサイド
授与機関名: 広島大学
授与年月日: 平成22年4月16日
授与年月日（W3CDTF）: 2010
報告番号: 乙第4116号
学位: 博士 (工学)
学位論文注記: 博士論文
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: UT51
対象利用者: 一般
一般注記: 博士論文
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: UT51-2011-H277
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000011295356
http://id.ndl.go.jp/bib/000011295356
整理区分コード: 213