博士論文

Effects of plasma processing on electrical properties of high-k/Ge gate stack structure

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Effects of plasma processing on electrical properties of high-k/Ge gate stack structure

国立国会図書館請求記号
UT51-2013-B805
国立国会図書館書誌ID
024663750
資料種別
博士論文
著者
Kusumandari [著]
出版者
[Kusumandari]
出版年
[2013]
資料形態
ページ数・大きさ等
1冊
授与大学名・学位
名古屋大学,博士(工学)
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書誌情報

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資料種別
博士論文
著者・編者
Kusumandari [著]
著者標目
Kusumandari クスマンダリ
出版事項
出版年月日等
[2013]
出版年(W3CDTF)
2013
数量
1冊
並列タイトル等
プラズマプロセスがHigh-k/Geゲートスタック構造の電気的特性に与える影響 プラズマ プロセス ガ High-k
授与機関名
名古屋大学