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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 伏谷 瑞穂彦坂 泰正松田 晃孝 他
- 並列タイトル等
- Non-linear Atomic Processes in Extreme Ultraviolet : Novel Photoabsorption Pathways Opened by Two Electrons
- タイトル（掲載誌）
- レーザ加工学会誌 = Journal of Japan Laser Processing Society
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 20(1):2013.3
- 掲載巻
- 20
- 掲載号
- 1
- 掲載ページ
- 54-57