Studying Resist Stochastics with the Multivariate Poisson Propagation Model (Special Issue of Advanced Patterning Materials and Processes)

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Studying Resist Stochastics with the Multivariate Poisson Propagation Model(Special Issue of Advanced Patterning Materials and Processes)

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資料種別: 記事
タイトル: Studying Resist Stochastics with the Multivariate Poisson Propagation Model
著者・編者: Patrick Naulleau
Christopher Anderson
Weilun Chao 他
シリーズタイトル: Special Issue of Advanced Patterning Materials and Processes
著者標目: Patrick Naulleau
Christopher Anderson
Weilun Chao
タイトル（掲載誌）: Journal of photopolymer science and technology
巻号年月日等（掲載誌）: 27(6):2014
掲載巻: 27
掲載号: 6
掲載ページ: 747-750
掲載年月日（W3CDTF）: 2014
ISSN（掲載誌）: 0914-9244
ISSN-L（掲載誌）: 0914-9244
出版事項（掲載誌）: Chiba : The Society of Photopolymer Science and Technology
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: photoresist
extreme ultraviolet
shot noise
NDLC: ZP48
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z53-W515
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 026010974
http://id.ndl.go.jp/bib/026010974
整理区分コード: 632