雑誌 電子資料日本結晶成長学会誌
その場X線回折法によ...

その場X線回折法による有機金属化合物気相成長GaInNの評価 (特集 半導体結晶成長機構のその場観察)

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その場X線回折法による有機金属化合物気相成長GaInNの評価(特集 半導体結晶成長機構のその場観察)

国立国会図書館請求記号
YH247-1397
国立国会図書館書誌ID
026842954
資料種別
記事
著者
岩谷 素顕ほか
出版者
東京 : 日本結晶成長学会
出版年
2015
資料形態
記録メディア
掲載誌名
日本結晶成長学会誌 Journal of the Japanese Association for Crystal Growth 42(3):2015
掲載ページ
p.218-224
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書誌情報

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記録メディア デジタル

資料種別
記事
著者・編者
岩谷 素顕
竹内 哲也
上山 智 他
並列タイトル等
Analysis of Metalorganic Vapor Phase Epitaxial Growth in GaInN Characterized by in Situ X-ray Diffraction
タイトル(掲載誌)
日本結晶成長学会誌 Journal of the Japanese Association for Crystal Growth
巻号年月日等(掲載誌)
42(3):2015
掲載巻
42
掲載号
3