Ga₂O₃上に堆積したSiO₂膜におけるポストアニールの影響 (電子デバイス)

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Ga₂O₃上に堆積したSiO₂膜におけるポストアニールの影響

(電子デバイス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
027543116
資料種別
記事
著者
小西 敬太ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2016-07
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116(158):2016.7.23・24
掲載ページ
p.11-15
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
小西 敬太
上村 崇史
ワン マンホイ
佐々木 公平
倉又 朗人
山腰 茂伸
東脇 正高
シリーズタイトル
並列タイトル等
Effects of post-deposition anneal on SiO₂ layer on Ga₂O₃
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
116(158):2016.7.23・24
掲載巻
116
掲載号
158